国立大学法人東北大学研究推進・支援機構 テクニカルサポートセンター 設備・機器利用システム

登録研究設備・機器

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研究設備・機器

[245] シリコン酸化皮膜形成用O3・TEOS/CVD装置 〔リンク〕

仕様・形式について

ユーテック


[245] シリコン酸化皮膜形成用O3・TEOS/CVD装置  〔リンク〕 画像

受付窓口

備考

利用の際はMNCへの利用責任者登録・利用者登録の上、MNCの予約システムにて予約が必要。
装置利用料等についてはMNCの規定に準ずること。
学外より利用希望の者は学内の研究室を通して利用すること。

本学に別途設置されている「マイクロ・ナノマシニング研究教育センター」での手続きに沿って使用申込みをしていただくことになりますので、上記受付窓口リンクページをご確認ください。

設置キャンパス

青葉山キャンパス 工学研究科附属マイクロ・ナノマシニング研究教育センター メインクリーンルーム
アクセス方法はこちら

[245] シリコン酸化皮膜形成用O3・TEOS/CVD装置  〔リンク〕 所在地マップ
より大きな地図で見る場合はこちらをクリックして下さい

学内専用ページ

リンク

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